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沈陽東創貴金屬材料有限公司
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濺射靶材ITO靶材的生產工藝 ITO靶材的生產工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結法。各種生產工藝及其特點簡介如下：
熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結。熱等靜壓工藝制造產品密度高、物理機械性能好，但設備投入高，生產成本高，哪里有包銀導電輥，產品的缺氧率高。
各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，包銀導電輥哪家好，極大地滿足了各種新型電子元器件發展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，包銀導電輥，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產業中，各種顯示技術(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發展，有的已經用于電腦及計算機的顯示器制造；在信息存儲產業中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質量提出了越來越高的要求，需求數量也逐年增加。
鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是近發展起來的，哪家有包銀導電輥，它作為第三代太陽能電池的阻擋層是佳選擇。
由于 W-Ti 系列薄膜具有非常優良的性能，近幾年來應用量急劇增加，2008年W-Ti 靶材世界用量已達到400t，隨著光伏產業的發展，這種靶材的需求量會越來越大。具行業預測其用量還會有很大的增加。國際太陽能電池市場以的速度增長，目前世界有30 多公司參與太陽能市場的進一步開發， 并已有的公司產品投入市場。
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第9年
