微弧氧化膜層生長發育時,先在基體表面產生放熱反應,轉化成一層陽極處理膜。當擴大反映電壓時,膜層厚度會進一步增加,再次增加電壓,厚度會隨著增加。可是當反映電壓增加到一定水平時,膜層會因為不可以承擔該工作電壓產生充放電且熱擊穿,造成低溫等離子充放電。反映的高溫將使膜層產生熔化,基體原素因為處于富氧自然環境中,將產生化合物。另外因為是在鋰電池電解液中,熔化物將一瞬間冷凝器,在基體表面轉化成一層瓷器。陶瓷膜的轉化成,將造成工作電壓進一步上升,膜層再度被熱擊穿,膜層厚度進一步增加。循環反復,膜層足以生長發育。
陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區別是什么?
由微弧氧化膜層的生長機理可知,陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發生的是化學反應,而微弧氧化除化學反應外,還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成(瞬間高溫度超過3K攝氏度),膜層與基體間為冶金結合,鎂合金微弧氧化,因此與基體結合良好。另外,膜層為氧化物瞬間冷凝形成,鎂合金微弧氧化封孔,具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能,良好的絕緣性等。但歸跟到底,微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于:膜與基體的結合力,膜層內部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。
微弧氧化技術都可以處理哪些材料?
現階段,微弧氧化技術處理的材料為鎂、鋁、鈦及其合金,另外鉭、鈮、鋯、鈹等材料表面也可以直接進行微弧氧化。我公司能夠在以上金屬表面進行相關性能的微弧氧化膜層制備。此外,微弧氧化 鎂合金加工,其它一些材料如不銹鋼也有文獻報道可進行微弧氧化處理,鎂合金微弧氧化應用,但是需行表面處理,如在其表面進行熱浸鍍鋁然后進行微弧氧化。對于這類材料,前期處理極為關鍵,將直接關系后期膜層的性能。
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