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陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區別是什么？
由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結合，微弧氧化加工的產品，因此與基體結合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結合力，膜層內部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。
與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質結合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優良，與基體結合牢固， 且工藝簡單，對環境污染小，微弧氧化加工， 目前對其生長規律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究， 在工業上得到了一定的應用，鈦微弧氧化加工涂層， 是一種具有發展潛力的鎂合金表面處理技術。微弧氧化技術在現代工業中應用匯越來越廣泛。
微弧氧化的原理
微弧氧化通過讓氧與鋁結合，使鋁合金（輕質但硬度、耐蝕性不足）表面原位生成一層氧化鋁陶瓷，鋁微弧氧化加工，使其表面變得質硬且耐蝕，進而達到了延長材料使用壽命的目的。同時，微弧電子學又是一種新型‘塑形’技術，通過負電性等離子體對材料進行納米尺度選取剝離，實現以非接觸式方式加工出精密零件，具有廣闊的應用前景。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源
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第7年
