MOS管失效的兩個主要原因:
電壓失效:即漏源間的BVdss電壓超過MOS管額定電壓,達到一定容量,造成MOS管失效。
柵電壓故障:柵極遭受異常電壓尖峰,造成柵氧層故障。
雪崩破壞到底是什么?簡單地說,臺州中低壓mos,MOS管是由母線電壓、變壓器反射電壓、漏感尖峰電壓等與MOS管之間疊加而形成的故障模式。簡而言之,即MOS管漏源極的電壓超過了它規定的電壓值,并且達到了某一能量極限i時所產生的常見故障。
造成柵電壓異常高的主要原因有三個:生產、運輸和裝配過程中的靜電;設備和電路寄生參數在電力系統運行過程中產生高壓諧振;在高壓沖擊時,高壓通過Ggd傳輸到電網(雷擊測試時這種故障更為常見)。
發熱情況有:
1.電路設計的問題,就是讓MOS管工作在線性的工作狀態,而不是在開關狀態。這也是導致MOS管發熱的一個原因。如果N-MOS做開關,G級電壓要比電源高幾V,才能完全導通,P-MOS則相反。沒有完全打開而壓降過大造成功率消耗,等效直流阻抗比較大,壓降增大,所以U*I也增大,中低壓mos廠家,損耗就意味著發熱。這是設計電路的非常忌諱的錯誤。
2.頻率太高,主要是有時過分追求體積,導致頻率提高,MOS管上的損耗增大了,所以發熱也加大了。
3.沒有做好足夠的散熱設計,電流太高,MOS管標稱的電流值,一般需要良好的散熱才能達到。所以ID小于大電流,也可能發熱嚴重,中低壓mos萬芯半導體,需要足夠的輔助散熱片。
4.MOS管的選型有誤,對功率判斷有誤,MOS管內阻沒有充分考慮,導致開關阻抗增大。
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mos管有的時候也稱作絕緣柵場效應管,因為它歸屬于場效應管中的絕緣柵型,全名是金屬—氧化物—半導體場效應晶體管或稱金屬—絕緣體—半導體場效應晶體管,WP中低壓mos,是一種能夠普遍應用在模擬電路與數字電路的場效晶體管。依據其“通道”(工作載流子)的極性差異,可分成“N型”與“P型”的兩個類型,也就是常說的Nmos、Pmos。
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