微弧氧化的發展方向
在工業應用的范圍內,微弧氧化電源監控,微弧氧化氧化工藝在下面幾個方向的發展是值得關注的:
①標準電解質的商業化及各種型號與系列電源的深化,并且通過復配電解質而擴展閥金屬的范圍,從而使微弧氧化的應用范圍擴大;
②通過神經網絡及相應的質量控制模型對微弧氧化工藝進行優化,微弧氧化電源,工藝的改進(比如鼓入氣泡以及超聲波震動);
③ 微弧氧化與其它技術的復合應用。微弧氧化電源
與普通的陽極氧化膜相比, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,銷售微弧氧化電源,與基質結合緊密, 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優良,與基體結合牢固, 且工藝簡單,對環境污染小, 目前對其生長規律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究, 在工業上得到了一定的應用, 是一種具有發展潛力的鎂合金表面處理技術。微弧氧化技術在現代工業中應用匯越來越廣泛。
鎂合金表面處理形成保護膜是提高Mg及鎂合金材料抗蝕性非常重要、非常有效的方法。近十幾年來,研發出了多種有效的表面處理工藝技術,大大擴展了鎂合金材料的應用范圍。鎂合金微弧氧化表面處理即是在鋁合金微弧氧化和普通陽極氧化的基礎上開發的一種新技術。
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