在氧化層中大部分的電荷效應是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關的。在800—1250~C的溫度范圍內,用干氧、濕氧或水汽進行的熱氧化過程有三個持續的階段,首先是環境氣氛中的氧進入到已生成的氧化層中,然后氧通過二氧化硅向內部擴散,鋁鈍化哪里有,當它到達Si02-Si界面時就同硅發生反應,形成新的二氧化硅。這樣不斷發生著氧的進入—擴散—反應過程,使靠近界面的硅不斷轉化為二氧化硅,氧化層就以一定的速率向硅片內部生長。
金屬的鈍化也可能是自發過程(如在金屬的表面生成一層難溶解的化合物,即氧化物膜)。在工業上是用鈍化劑(主要是氧化劑)對金屬進行鈍化處理,鋁鈍化哪里好,形成一層保護膜。常見例子:鐵、鋁均可發生鈍化。
腐蝕定義腐蝕是一種電化學變化過程,未經處理的金屬表面存在少量電離子,這些電離子會由高電位區(陰極)向低電位區(陽極)移動,湖北鋁鈍化,因此產生電流。在此電流的作用下會加速對金屬破壞性的攻擊而在金屬電位薄弱的部位產生腐蝕,通俗的說就是生銹。
吸附理論認為,金屬表面并不需要形成固態產物膜才鈍化,而只要表面或部分表面形成一層氧或含氧粒子(如O2-或OH-)的吸附層也就足以引起鈍化了。這吸附層雖只有單分子層厚薄,但由于氧在金屬表面上的吸附,鋁鈍化報價,改變了金屬與溶液的界面結構,使電極反應的活化能升高,金屬表面反應能力下降而鈍化。此理論主要實驗依據是測量界面電容和使某些金屬鈍化所需電量。實驗結果表明,不需形成成相膜也可使一些金屬鈍化。
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