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EMMI偵測的到亮點、熱點(Hot Spot)情況；原來就會有的亮點、熱點(Hot Spot)飽和區操作中的BJT或MOS(Saturated Or Active Bipolar Transistors /Saturated MOS)動態式CMOS (Dynamic CMOS)二極管順向與逆向偏壓崩潰 (Forward Biased Diodes /Reverse Biased Diodes Breakdown)偵測不到亮點情況不會出現亮點的故障奧姆或金屬的短路(Ohmic Short / Metal Short)亮點被遮蔽之情況埋入式接面的漏電區(Buried Juncti)金屬線底下的漏電區(Leakage Sites Under Metal)
對于故障分析而言，微光顯微鏡(Emission Microscope，精細研磨機器， EMMI)是一種相當有用且效率極高的分析工具。主要偵測IC內部所放出光子。在IC元件中，精細研磨設備，EHP(Electron Hole Pairs) Recombination會放出光子(Photon)。舉例說明：在P-N 結加偏壓，此時N阱的電子很容易擴散到P阱，而P的空穴也容易擴散至N然後與P端的空穴（或N端的電子）做 EHP Recombination。
在紅外光顯微鏡中通常使用白熾燈照明，很多白熾燈能夠發射比可見光更多的紅外光，在這里色溫是一個重要的參數。當燈絲的溫度為24000K時，大發射是在光譜的1200nm處左右。當溫度為33000K時，大發射在光譜的800nm處左右。使用特殊的濾光片就可以分離出所要求波長的紅外線。紅外光像的觀察和聚焦可以使用像轉換器或專門設計的電視掃描管來進行。用于紅外光顯微鏡的像轉換器有兩種類型，另一種是“固體”類型，臺州精細研磨，它是由一個光電導體層和一個電子發光層所組成，這兩者被夾在可以提供交流電的兩層薄透明導體層之間。相當于真空管陽極的電子發光層，對著光電導體層已經被紅外光輻射轟擊的區域發射可見光，精細研磨機，從而形成了可見的像。另外，已經設計制造出對直到3，500n m波長范圍都敏感的電視管。在紅外光顯微照相中可以使用經過特殊敏感化處理的乳膠片，它在直到大約1300nm較低的紅外光區域都是敏感的。
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